Structure of mixed-phase LPCVD silicon films as a function of operating conditions

被引:0
作者
De Mauduit, B. [1 ]
Bourgerette, C. [1 ]
Paillard, V. [2 ]
Puech, P. [2 ]
Caussat, B. [3 ]
机构
[1] Ctr. d'Elaboration Mat./d'Etud. S., UPR 8011 du CNRS, 29 rue Jeanne Marvig, 31055 Toulouse Cedex 4, France
[2] Université Paul Sabatier, Laboratoire de Physique des Solides, ESA 5477 du CNRS, 118 route de Narbonne, 31062 Toulouse Cedex 4, France
[3] INPT, Laboratoire de Génie Chimique, UMR 5503 du CNRS, 18 chemin de la Loge, 31078 Toulouse Cedex, France
来源
Journal De Physique. IV : JP | 1999年 / 9 pt 2卷 / 08期
关键词
D O I
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