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Potentiostatic testing of thin silicon nitride films
被引:0
作者
:
Ulrich, R.
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0
机构:
Univ of Arkansas, Fayetteville, United States
Univ of Arkansas, Fayetteville, United States
Ulrich, R.
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Zhao, G.
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机构:
Univ of Arkansas, Fayetteville, United States
Univ of Arkansas, Fayetteville, United States
Zhao, G.
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Brown, W.
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机构:
Univ of Arkansas, Fayetteville, United States
Univ of Arkansas, Fayetteville, United States
Brown, W.
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机构
:
[1]
Univ of Arkansas, Fayetteville, United States
来源
:
Chemical Engineering Communications
|
1995年
/ 137卷
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
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