Chemical vapour deposition of amorphous silicon with silanes for thin film transistors. The influence of the amorphous silicon deposition temperature

被引：0

作者：

机构：

[1] Breddels, Paul A.

[2] Kanoh, Hiroshi

[3] Sugiura, Osamu

[4] Matsumura, Masakiyo

来源：

Breddels, Paul A. | 1600年 / 30期

关键词：

Semiconducting Silicon;

D O I：

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