Novel, convenient, low cost alternative method for film fabrication: titanium nitride thin films on alumina substrates for automotive applications from a molecular precursor, (CH3)3SiNHTiCl3

被引：0

作者：

Massachusetts Inst of Technology, Cambridge, United States ^{[1
]}

机构：

来源：

Chem Vapor Deposition | / 2卷 / 51-53期

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Metallorganic chemical vapor deposition

引用

收藏

相关论文

empty

未找到相关数据