Commercial plasma source ion implantation facility

被引：0

作者：

Scheuer, J.T. ^{[1
]}

Walter, K.C. ^{[1
]}

Adler, R.A. ^{[1
]}

Horne, W.G. ^{[1
]}

机构：

[1] Los Alamos Natl Lab, Los Alamos, United States

来源：

Surface and Coatings Technology | 1997年 / 93卷 / 2-3期

关键词：

D O I：

暂无

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页码：192 / 196

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