Thin films of amorphous silicon-tin alloy prepared by radio-frequency magnetron sputtering

被引：0

作者：

Maruyama, Toshiro ^{[1
]}

Akagi, Hisao ^{[1
]}

机构：

[1] Kyoto Univ, Kyoto, Japan

来源：

| 1997年 / Electrochemical Soc Inc, Pennington, NJ, United States卷 / 144期

关键词：

D O I：

暂无

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