Measurement of parameters for simulation of 193 nm lithography using Fourier transform infrared baking system

被引：0

作者：

Sekiguchi, Atsushi ^{[1
]}

Isono, Mariko ^{[1
]}

Matsuzawa, Toshiharu ^{[1
]}

机构：

[1] Litho Tech Japan Corp., 2-6-6, Namiki, Kawaguchi, Saitama, 332-0034, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers | 1999年 / 38卷 / 08期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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