ON THE RESISTIVITY OF TiSi2: THE IMPLICATION FOR LOW-TEMPERATURE APPLICATIONS.

被引：0

作者：

Krusin-Elbaum, Lia ^{[1
]}

Sun, Jack Yuan-Chen ^{[1
]}

Ting, Chung-Yu ^{[1
]}

机构：

[1] IBM, T. J. Watson Research Cent,, Yorktown Heights, NY, USA, IBM, T. J. Watson Research Cent, Yorktown Heights, NY, USA

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