Development and characterization of semiconductor ion detectors for plasma diagnostics in the range over 0.3 keV

被引：0

作者：

Cho, T. ^{[1
]}

Sakamoto, Y. ^{[1
]}

Hirata, M. ^{[1
]}

Kohagura, J. ^{[1
]}

Makino, K. ^{[1
]}

Kanke, S. ^{[1
]}

Takahashi, K. ^{[1
]}

Okamura, T. ^{[1
]}

Nakashima, Y. ^{[1
]}

Yatsu, K. ^{[1
]}

Tamano, T. ^{[1
]}

Miyoshi, S. ^{[1
]}

机构：

[1] Univ of Tsukuba, Ibaraki, Japan

来源：

Review of Scientific Instruments | 1997年 / 68卷 / 1 pt 2期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：324 / 327