Adhesion improvement of plasma-deposited silica thin films on stainless steel substrate studied by x-ray photoemission spectroscopy and in situ infrared ellipsometry

被引：0

作者：

Bertrand, N.

Drevillon, B.

Gheorghiu, A.

Senemaud, C.

Martinu, L.

Klemberg-Sapieha, J.E.

机构：

来源：

Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films | 1998年 / 16卷 / 01期

关键词：

D O I：

暂无

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摘要：

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