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CuCl microcrystallite-doped SiO2 glass thin films prepared by RF sputtering
被引：0
作者：
机构：
[1] Tsunetomo, Keiji
[2] Shimizu, Ryuichiro
[3] Kawabuchi, Akira
[4] Kitayama, Hayuyuki
[5] Osaka, Yukio
来源：
Tsunetomo, Keiji
|
1600年
/
30期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
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