Tribochemical characterization of the lubrication film at the Si3N4/Si3N4 interface sliding in aqueous solutions

被引：0

作者：

Honda, F. ^{[1
]}

Saito, T. ^{[1
]}

机构：

[1] Toyota Technological Inst, Nagoya, Japan

来源：

Applied Surface Science | 1996年 / 92卷 / 1-4期

关键词：

D O I：

暂无

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页码：651 / 655

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