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Emissive probe study of CF4/H2 etching plasma
被引：0
作者：
机构：
[1] Shindo, Haruo
[2] Konishi, Masayoshi
[3] Horiike, Yasuhiro
来源：
Shindo, Haruo
|
1600年
/
30期
关键词：
Electron Temperature;
D O I：
暂无
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学科分类号：
摘要：
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