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Formation of TaSi2 and associated fractal growth on Si surface upon high current pulsed Ta-ion implantation
被引：0
作者：
机构：
[1] Cheng, X.Q.
[2] Wang, R.S.
[3] Tang, X.J.
[4] Liu, B.X.
来源：
Liu, B.X. (dmslbx@tsinghua.edu.cn)
|
1600年
/
Elsevier Ltd卷
/
363期
关键词：
Number:;
-;
Acronym:;
NSFC;
Sponsor: National Natural Science Foundation of China;
G2000067207-1;
MOST;
Sponsor: Ministry of Science and Technology of the People's Republic of China;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
(Edited Abstract)
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