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Electron-beam diagnostics of gas mixtures involved in SiO2 film deposition
被引：0
作者：
Belikov, A.E.
Kuznetsov, O.V.
Sharafutdinov, R.G.
机构：
来源：
Plasma Chemistry and Plasma Processing
|
1995年
/
15卷
/
03期
关键词：
D O I：
暂无
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