Very low temperature deposition of polycrystalline Si films fabricated by hydrogen dilution with electron cyclotron resonance chemical vapor deposition

被引：0

作者：

Wang, Kun-Chih ^{[1
]}

Cheng, Kuan-Lun ^{[1
]}

Jiang, Yeu-Long ^{[1
]}

Yew, Tri-Rung ^{[1
]}

Hwang, Huey-Liang ^{[1
]}

机构：

[1] Natl Tsing-Hua Univ, Hsinchu, Taiwan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes & Review Papers | 1995年 / 34卷 / 2 B期

关键词：

Semiconducting films;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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