Maskless ion implantation of cerium by focused ion beam

被引：0

作者：

Kagami, Manabu ^{[1
]}

Shiokawa, Takao ^{[1
]}

Segawa, Yuzaburo ^{[1
]}

Aoyagi, Yoshinobu ^{[1
]}

Namba, Susumu ^{[1
]}

Okada, Hiroshi ^{[1
]}

Ito, Toshio ^{[1
]}

机构：

[1] Mitsubishi Rayon Co, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters | 1988年 / 27 pt 2卷 / 06期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用