Spectroscopic study on N2O-plasma oxidation of hydrogenated amorphous silicon and behavior of nitrogen

被引：0

作者：

机构：

[1] Masuda, Atsushi

[2] Fukushi, Iwao

[3] Yonezawa, Yasuto

[4] Minamikawa, Toshiharu

[5] Morimoto, Akiharu

[6] Kumeda, Minoru

[7] Shimizu, Tatsuo

来源：

Masuda, Atsushi | 1600年 / 32期

关键词：

Semiconducting silicon;

D O I：

暂无

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学科分类号：

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