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Effect of amorphous Si on the epitaxial growth of CoSi2 by Co/Si/Ti/Si solid state epitaxy
被引:0
作者
:
Qu, Xin-Ping
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机构:
Fudan Univ, Shanghai, China
Fudan Univ, Shanghai, China
Qu, Xin-Ping
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Ru, Guo-Ping
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Fudan Univ, Shanghai, China
Fudan Univ, Shanghai, China
Ru, Guo-Ping
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Liu, Jian-Hai
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Fudan Univ, Shanghai, China
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Liu, Jian-Hai
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Mo, Hong-Xiang
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Fudan Univ, Shanghai, China
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Mo, Hong-Xiang
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Liu, Jing
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Fudan Univ, Shanghai, China
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Liu, Jing
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Li, Bing-Zong
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Fudan Univ, Shanghai, China
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Li, Bing-Zong
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Chu, Paul K.
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Fudan Univ, Shanghai, China
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Chu, Paul K.
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机构
:
[1]
Fudan Univ, Shanghai, China
来源
:
International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology Proceedings
|
1998年
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
6
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