Optical characteristics of amorphous silicon nitride thin films prepared by electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition

被引：0

作者：

Inukai, Takashi ^{[1
]}

Ono, Ken'ichi ^{[1
]}

机构：

[1] NTT, Ibaraki, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers | 1994年 / 33卷 / 5 A期

关键词：

Silicon nitride;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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