Modified GaSe crystals for mid-IR applications

被引：0

作者：

Singh, N.B. ^{[1
]}

Suhre, D.R. ^{[1
]}

Rosch, W. ^{[1
]}

Meyer, R. ^{[1
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Marable, M. ^{[1
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Fernelius, N.C. ^{[1
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Hopkins, F.K. ^{[1
]}

Zelmon, D.E. ^{[1
]}

Narayanan, R. ^{[1
]}

机构：

[1] Northrop Grumman Corp, Pittsburgh, United States

来源：

Journal of Crystal Growth | 1999年 / 198-199卷 / pt 1期

关键词：

Number:; -; Acronym:; AFRL; Sponsor: Air Force Research Laboratory;

D O I：

暂无

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学科分类号：

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引用

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