Thin film metallization for aluminum nitride

被引：0

作者：

Imanaka, Yoshihiko ^{[1
]}

Abe, Tomoyuki ^{[1
]}

Yokouchi, Kishio ^{[1
]}

机构：

[1] Fujitsu Lab Ltd, Atsugi, Japan

来源：

Key Engineering Materials | 2000年 / 181卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Thin films

引用

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页码：129 / 132

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