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Octadecyltrichlorosilane self-assembled-monolayer islands as a self-patterned-mask for HF etching of SiO2 on Si
被引：0
作者：
机构：
来源：
J Vac Sci Technol A
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3 pt 2卷
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1680期
关键词：
D O I：
暂无
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