Thin film semiconductor deposition on free-standing ZnO columns

被引：189

作者：

Konenkamp, R.

Boedecker, K.

Lux-Steiner, M.C.

Poschenrieder, M.

Zenia, F.

Levy-Clement, C.

Wagner, S.

机构：

[1] Hahn-Meitner Institut Berlin, Glienicker Str. 100, 14109 Berlin, Germany

[2] Lab. Chim. Metallurgique Terres R., CNRS, 2-8 rue Henri Dunant, 94320 Thiais, France

[3] Department of Electrical Engineering, Princeton University, Princeton, NJ 08544, United States

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1319187

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用