Characteristics of an chemically amplified silicone-based negative resist (CSNR) in electron beam lithography

被引：0

作者：

Tanaka, Akinobu ^{[1
]}

Ban, Hiroshi ^{[1
]}

Nakamura, Jiro ^{[1
]}

Kawai, Yoshio ^{[1
]}

机构：

[1] NTT LSI Lab, Atsugi, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers | 1992年 / 31卷 / 07期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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