Novel silicon-containing negative resist for bilayer application in electron beam direct writing

被引：0

作者：

Hashimoto, Kazuhiko ^{[1
]}

Endo, Masayuki ^{[1
]}

Sasago, Masaru ^{[1
]}

机构：

[1] Matsushita Electric Industrial Co, Ltd, Osaka, Japan

来源：

| 1600年 / 32期

关键词：

D O I：

暂无

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