In situ spectroscopic ellipsometric investigation of vacuum annealed and oxidized porous silicon layers

被引：0

作者：

Fried, M. ^{[1
]}

Wormeester, H. ^{[1
]}

Zoethout, E. ^{[1
]}

Lohner, T. ^{[1
]}

Polgar, O. ^{[1
]}

Barsony, I. ^{[1
]}

机构：

[1] Research Inst for Materials Science, Budapest, Hungary

来源：

Thin Solid Films | 1998年 / 313-314卷 / 1-2期

基金：

匈牙利科学研究基金会;

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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