In-situ after-treatment using low-energy dry-etching with a CF4/O2 gas mixture to remove reactive ion etching damage

被引：0

作者：

Matsui, Miyako ^{[1
]}

Uchida, Fumihiko ^{[1
]}

Kojima, Masayuki ^{[1
]}

Tokunaga, Takafumi ^{[1
]}

Yamazaki, Kazuo ^{[1
]}

Katsuyama, Kiyomi ^{[1
]}

Arai, Hiromasa ^{[1
]}

机构：

[1] Hitachi Central Research Lab, Tokyo, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes & Review Papers | 1998年 / 37卷 / 4 B期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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