Study of surface processes in the digital etching of GaAs

被引：0

作者：

Ishii, Masashi ^{[1
]}

Meguro, Takashi ^{[1
]}

Kodama, Hirokazu ^{[1
]}

Yamamoto, Yasuhiro ^{[1
]}

Aoyagi, Yosinobu ^{[1
]}

机构：

[1] RIKEN, Wako, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers | 1992年 / 31卷 / 07期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2212 / 2215