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X-RAY MEASUREMENT OF RESIDUAL STRESSES IN SINTERED SILICON NITRIDE.
被引：0
作者：
Tanaka, Keisuke
Kurimura, Takayuki
Matsui, Eiji
Akiniwa, Yoshiaki
机构：
来源：
|
1600年
/
36期
关键词：
D O I：
暂无
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