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FINE PATTERN FABRICATION USING ION BEAM ETCHING.
被引：0
作者：
Furuya, Shigeru
Kobayashi, Koichi
Yamamoto, Sumio
机构：
来源：
Fujitsu Scientific and Technical Journal
|
1979年
/
15卷
/
04期
关键词：
Compilation and indexing terms;
Copyright 2025 Elsevier Inc;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
INTEGRATED CIRCUITS - Masks
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