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PLASMA-HYDROGENATION EFFECTS IN DOPED CVD AMORPHOUS SILICON FILMS.
被引：0
作者：
Hasegawa, Seiichi
Ando, Daizo
Kurata, Yoshihiro
Shimizu, Tatsuo
机构：
来源：
|
1983年
/
22期
关键词：
Compendex;
D O I：
10.1143/jjap.22.l815
中图分类号：
学科分类号：
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