Effects of rapid thermal annealing on cobalt silicided p+ poly-Si gates fabricated by BF2+ implantation into bilayered CoSi/a-Si films

被引：0

作者：

Lai, Wen-Koi ^{[1
]}

Liu, Han-Wen ^{[1
]}

Juang, Miin-Horng ^{[1
]}

Cheng, Huang-Chung ^{[1
]}

机构：

[1] Natl Chiao Tung Univ, Hsinchu, Taiwan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers | 1999年 / 38卷 / 7 A期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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