DEPOSITION OF BORON NITRIDE THIN FILMS BY ION BEAM ASSISTED DEPOSITION.

被引：0

作者：

Bricault, R.J. ^{[1
]}

Sioshansi, P. ^{[1
]}

Bunker, S.N. ^{[1
]}

机构：

[1] Spire Corp, Bedford, MA, USA, Spire Corp, Bedford, MA, USA

来源：

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

BORON COMPOUNDS

引用

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