KrF EXCIMER LASER PROJECTION LITHOGRAPHY: 0. 35 mu m MINIMUM SPACE VLSI PATTERN FABRICATION BY A TRI-LEVEL RESIST PROCESS.

被引：0

作者：

Sato, Takashi ^{[1
]}

Nakase, Makoto ^{[1
]}

Nonaka, Misako ^{[1
]}

Higashikawa, Iwao ^{[1
]}

Horiike, Yasuhiro ^{[1
]}

机构：

[1] Toshiba Corp, Kawasaki, Jpn, Toshiba Corp, Kawasaki, Jpn

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes | 1988年 / 27卷 / 02期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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