In situ ultraviolet laser treatment during plasma deposition for the improvement of film qualities in hydrogenated amorphous silicon

被引：0

作者：

Suzuki, Atsushi ^{[1
]}

Toyoshima, Yasutake ^{[1
]}

McElheny, Peter J. ^{[1
]}

Matsuda, Akihisa ^{[1
]}

机构：

[1] Electrotechnical Lab, Tsukuba, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers | 1991年 / 30卷 / 5 A期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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