Influence of the dissolved gas in cleaning solution on silicon wafer cleaning efficiency

被引：0

作者：

Kanetaka, H. ^{[1
]}

Kujime, T. ^{[1
]}

Yazaki, H. ^{[1
]}

Kezuka, T. ^{[1
]}

Ohmi, T. ^{[1
]}

机构：

[1] Tohoku Univ, Sendai, Japan

来源：

Solid State Phenomena | 1999年 / 65-66卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

5

引用

收藏

页码：43 / 48

相关论文

empty

未找到相关数据