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Modelisation de l'ecoulement et du transfert de masse dans un reacteur plasma. Application au depot de silicium amorphe
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作者：
Layeillon, L.
Despax, B.
Duverneuil, P.
Couderc, J.P.
机构：
来源：
Vide, les Couches Minces
|
1991年
/
47卷
/
256期
关键词：
D O I：
暂无
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