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Self-controlled diffusion of Al in Cu thin film
被引：0
作者：
Mozetic, M.
Zalar, A.
Drobnic, M.
机构：
[1] Inst. Surf. Eng. and Optoelectronics, Teslova 30, 1001 Ljubljana, Slovenia
[2] Institute Jožef Stefan, Jamova 39, 1001 Ljubljana, Slovenia
来源：
Vacuum
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50卷
/
1-2期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
12
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