Scaling of the photo-induced frequency dependent loss in amorphous silicon at low temperatures

被引：0

作者：

Long, A.R. ^{[1
]}

Mostefa, M. ^{[1
]}

Lemon, R. ^{[1
]}

机构：

[1] Univ of Glasgow, Glasgow, United Kingdom

来源：

Journal of Non-Crystalline Solids | 1991年 / 137-38卷 / pt 1期

关键词：

Semiconducting Silicon;

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

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