Damage formed on silicon surface by helicon wave plasma etching

被引：0

作者：

Hara, Tohru ^{[1
]}

Kawaguchi, Kazu ^{[1
]}

Hayashi, Jun ^{[1
]}

Nogami, Hiroshi ^{[1
]}

Tsukada, Tsutomu ^{[1
]}

机构：

[1] Hosei Univ, Tokyo, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters | 1993年 / 32卷 / 4 A期

关键词：

11;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用