CH3 radical density in electron cyclotron resonance CH3OH and CH3OH/H2 plasmas

被引：0

作者：

Ikeda, Masanobu ^{[1
]}

Aiso, Kokichi ^{[1
]}

Hori, Masaru ^{[1
]}

Goto, Toshio ^{[1
]}

机构：

[1] Nagoya Univ, Nagoya, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes & Review Papers | 1995年 / 34卷 / 6 A期

关键词：

Plasmas;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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