Growth and characterisation of boron nitride thin films

被引：0

作者：

Plass, M.F. ^{[1
]}

Fukarek, W. ^{[1
]}

Kolitsch, A. ^{[1
]}

Kreissig, U. ^{[1
]}

机构：

[1] Forschungszentrum Rossendorf, Dresden, Germany

来源：

Surface and Coatings Technology | 1996年 / 84卷 / 1 -3 pt 2期

关键词：

The authors acknowledge S. Mandl for discussions. This work is supported by the SMWK (No. 4-7514.83-FZR/405);

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

引用

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