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CONTACT-LIMITED BEHAVIOR IN AMORPHOUS-SILICON FET FOR APPLICATIONS TO MATRIX-ADDRESSED LIQUID-CRYSTAL DISPLAYS.
被引:0
作者
:
Possin, G.E.
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机构:
GE, Schenectady, NY, USA, GE, Schenectady, NY, USA
GE, Schenectady, NY, USA, GE, Schenectady, NY, USA
Possin, G.E.
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Castleberry, D.E.
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GE, Schenectady, NY, USA, GE, Schenectady, NY, USA
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Castleberry, D.E.
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Piper, W.W.
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Piper, W.W.
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Parks, H.G.
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Parks, H.G.
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机构
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GE, Schenectady, NY, USA, GE, Schenectady, NY, USA
来源
:
Proceedings of the SID
|
1984年
/ 26卷
/ 03期
关键词
:
AMORPHOUS-SILICON PROCESS - CONTACT DROP - FERMI LEVEL - MATRIX ADDRESSING - PARASITIC CAPACITANCE;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
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摘要
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