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Role of oxygen on donor formation in CZ-silicon during 430-630 °C heat treatment
被引：0
作者：
G.B. Pant Univ of Agriculture &, Technology, Pantnagar, India
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]
机构：
来源：
Diffus Def Data Pt B
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123-130期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
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