Fundamental study on nano domain engineering using scanning nonlinear dielectric microscopy

被引：0

作者：

Matsuura, K. ^{[1
]}

Cho, Y. ^{[1
]}

Odagawa, H. ^{[1
]}

机构：

[1] Res. Inst. of Elec. Communication, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers | 2001年 / 40卷 / 6 B期

关键词：

D O I：

10.1143/jjap.40.4354

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：4354 / 4356