Investigation of hydrogenated amorphous silicon germanium fabricated under high hydrogen dilution and low deposition temperature conditions for stable solar cells

被引：0

作者：

Shima, Masaki ^{[1
]}

Isomura, Masao ^{[1
]}

Maruyama, Eiji ^{[1
]}

Okamoto, Shingo ^{[1
]}

Haku, Hisao ^{[1
]}

Wakisaka, Kenichiro ^{[1
]}

Kiyama, Seiichi ^{[1
]}

Tsuda, Shinya ^{[1
]}

机构：

[1] Sanyo Electric Co, Ltd, Osaka, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes & Review Papers | 1998年 / 37卷 / 12 A期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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