Ultrathin oxide grown on polysilicon by ECR (Electron Cyclotron Resonance) N2O plasma

被引：0

作者：

Han, Sangyeon ^{[1
]}

Shin, Hyungcheol ^{[1
]}

机构：

[1] KAIST, Taejon, Korea, Republic of

来源：

International Symposium on Plasma Process-Induced Damage, P2ID, Proceedings | 2000年

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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