Low temperature deposition of (Ba, Sr)TiO3 films by electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition

被引：0

作者：

NEC Corp, Kawasaki, Japan ^{[1
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机构：

来源：

Jpn J Appl Phys Part 1 Regul Pap Short Note Rev Pap | / 9 B卷 / 5089-5093期

关键词：

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

Metallic films

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