Control of silicon particle behavior using a low frequency electromagnetic field in silane plasma chemical vapor deposition

被引：0

作者：

Dept. of Elec. Eng. and Comp. Sci., Nagasaki Univ., 1-14 Bunkyo, 852, Nagasaki, Japan ^{[1
]}

机构：

来源：

Thin Solid Films | / 1卷 / 59-62期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用